所謂的常規(guī)真空工藝是指沒有特殊要求的真空工藝。這種真空設(shè)備(設(shè)備)的真空衛(wèi)生要求是必需的。

　　(1)處于真空狀態(tài)的真空設(shè)備各部分不需要累積污染源，表面無灰塵，鐵銹或銹蝕;

　　(2)真空設(shè)備真空室表面應(yīng)光滑，無松動軟組織和氣孔，無內(nèi)部焊縫，會影響真空缺陷;

　　(3)在高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運動部件不得使用機油作潤滑劑，要采用低飽和蒸氣壓擴散泵油和硅油作潤滑劑;法蘭和觀察窗的密封部位應(yīng)涂高真空油脂;

　　(4)真空設(shè)備一般應(yīng)工作在溫度15?30℃，相對濕度不高于70%的清潔空氣循環(huán)環(huán)境中。冷卻水入口溫度不高于25°C。電氣真空工藝對環(huán)境的要求電氣真空結(jié)構(gòu)材料除具有良好的機械性能和加工性能外，還要滿足其他性能要求，即易脫氣，低飽和蒸氣壓，一定的化學(xué)穩(wěn)定性，一定的度數(shù)純度和清潔度，合適的輻射能力等等。因此，電真空過程具有特殊性，并且對清潔過程的要求非常嚴(yán)格，并且應(yīng)該消除或最大限度地減少部件的污染。真空鍍膜工藝的環(huán)境要求真空鍍膜工藝基板(基板)表面的清潔工藝非常重要。在基材進(jìn)入鍍膜室之前，應(yīng)在鍍前仔細(xì)清潔，以達(dá)到除油，去污和脫水的目的。 基材的表面污染來自加工，傳輸和包裝過程中附著在零件上的各種灰塵，拋光膏，油脂，汗?jié)n等;在濕空氣中在部件表面上形成的氧化膜;吸收和吸附在零件表面的氣體。大部分這些污垢可以通過除油或化學(xué)清洗來去除。